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PROCESS CAPABILITY

制程能力

技術路線-高多層(HLC)
項目 參數
最大尺寸 1092mm*660mm
最高層數 (L) 30
最大闆厚 (mm) 10mm
最薄闆厚 (mm) 0.3
基銅厚度 内層 ( OZ ) 12
外層 ( OZ ) 12
最小機械孔鑽徑 ( mm ) 0.15
PTH 尺寸公差 ( mil ) ±2
背鑽殘厚 ( mil ) 2.4
PTH最大縱橫比 18:1
項目 參數
最小PTH孔盤 内層 ( mil ) DHS + 10
外層 ( mil ) DHS + 8  
防焊對位精度 (um) ± 30
阻抗控制 ≥50ohms ±8%
<50ohms 5 Ω
最小線寬/線距 (内層) 2.6 / 2.6
最小線寬/線距(外層) 3.0 / 3.5
最大塞孔凹陷 ( um ) 20
表面處理類型 沉金 電金 有/無鉛噴錫 OSP 沉錫 鎳钯金 沉銀 電軟金 電鉑金
技術路線-高密度闆(HDI)
項目 參數
結構 6+n+6
疊孔結構 Any Layer(14L)
闆厚 (mm) Min. 8L 0.4
Min. 10L 0.45
Min. 12L 0.6
MAX. 2.4
最小芯闆厚度 ( um ) 40
最薄PP厚度 ( um ) 25(#1017 PP)
基同厚度 内層 (OZ) 1/3 ~ 2
外層 (OZ) 1/3 ~ 1
項目 參數
最小機械鑽孔徑 (um) 200
最大通孔縱橫比 10:1
最小鐳射孔/孔盤 ( um ) 70/ 170
最大鐳射孔縱橫比 0.8 : 1
PTH上鐳射孔 (VOP)結構設計 Yes
鐳射通孔結構(DT≤200um) 60-100um
最小線寬/線距 (L/S/Cu, um) 内層 40/ 40/ 15
外層 40 /50 /20
最小 BGA 節距 (mm) 0.3
項目 參數
防焊對位精度 (um) ±25
最小阻焊寬度 (mm) 0.06
阻抗控制 >= 50ohm ±8%
< 50ohm ±3ohm
闆彎翹控制 ≤0.5%
Cavity深度控制 (um) 控深鑽 ± 75
激光燒蝕法 ±50
表面處理類型 沉金 電金 有/無鉛噴錫 OSP 沉錫 鎳钯金 沉銀 電軟金 電鉑金
技術路線-軟闆與軟硬結合闆
項目 參數
軟闆最大層數 8
卷寬/闆尺寸 ( mm ) 卷寬 (内層) 500
工作闆尺寸 500 x 610
最小線寬/線距 ( um ) (L/S/Cu thickness) 内層(基材銅) 35 /35 /12
45 /45 /18
外層(電鍍銅) 50 /50 /25
55 /55 /35
鐳射孔結構 最小鐳射孔 (um) 65
疊孔結構 Y
鐳射通孔 ( um ) 75
械孔尺寸 ( um ) 100
最小孔盤設計 ( um ) 内層(基材銅) D + 175
外層(電鍍銅) D + 150
紐扣電鍍 D + 200
項目 參數
覆蓋膜(CVL) ( um ) 精度 ±125
阻焊( um ) 精度 ± 37.5
橋寬能力 75
電測pad節距 ( um ) 常規治具 150
飛針 100
軟硬結合闆技術 軟闆層數 Up to 4 w air gap
軟硬結合闆層數 Up to 16
最大軟硬結合闆尺寸 ( mm ) 500 x 610
最小軟闆厚度 ( um ) 12
最薄硬闆PP玻纖類型 # 1017
表面處理類型 沉金 電金 有/無鉛噴錫 OSP